大尺寸氟化鈣CaF2：直徑可達350mm，厚度過100mm，157nm高率。
應(yīng)用領(lǐng)域
集成電路光刻：制造工具
集成電路光刻：157nm，193nm，248nm準分子激光光束傳輸系統(tǒng)
非光刻：激光和成像光學(xué)
關(guān)鍵特性
優(yōu)異的深紫外性具體材料指標，
高激光耐久性
低應(yīng)力雙折射
高折射率一致性
紫外率曲線
率曲線
應(yīng)用領(lǐng)域
集成電路光刻：制造工具
集成電路光刻：157nm，193nm，248nm準分子激光光束傳輸系統(tǒng)
非光刻：激光和成像光學(xué)
關(guān)鍵特性
優(yōu)異的深紫外性具體材料指標，
高激光耐久性
低應(yīng)力雙折射
高折射率一致性
紫外率曲線
率曲線
