ABL3600氣浮平臺
1專為掃描顯微鏡/掩模/晶片檢測應(yīng)用設(shè)計
2雙軸,大孔,開放式結(jié)構(gòu)
3非接觸直線編碼器反饋,高
4雙直線電機驅(qū)動XY軸
5軸全預(yù)加負載氣浮導(dǎo)軌(空氣軸承)
行程≤250mm
±1um
重復(fù)定位±0.20um
直線度±0.50um
平面度±1um

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ABL3600氣浮平臺
1專為掃描顯微鏡/掩模/晶片檢測應(yīng)用設(shè)計
2雙軸,大孔,開放式結(jié)構(gòu)
3非接觸直線編碼器反饋,高
4雙直線電機驅(qū)動XY軸
5軸全預(yù)加負載氣浮導(dǎo)軌(空氣軸承)
行程≤250mm
±1um
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直線度±0.50um
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