硬脂酸鎂實驗室納米在線研磨分散機(jī) 

硬脂酸鎂，化學(xué)式為C36H70MgO4，分子量為591.24，是一種有機(jī)化合物，為白色無砂性的細(xì)粉，與皮膚接觸有滑膩感。在水、乙醇或乙醚中不溶，主要用作潤滑劑、抗粘劑、助流劑。特別適宜油類、浸膏類藥物的制粒，制成的顆粒具有很好的流動性和可壓性。在直接壓片中用作助流劑。還可作為助濾劑、澄清劑和滴泡劑，以及液體制劑的助懸劑、增稠劑。

應(yīng)用領(lǐng)域

1.該品用作聚氯乙烯熱穩(wěn)定劑，以及化妝品年面粉、潤膚油膏和醫(yī)藥片劑原料（賦形藥、潤滑藥）；用于校木粉中使之潤滑光亮透明；油漆工業(yè)作透明平光劑等。

2.廣泛用于食品、醫(yī)藥、涂料、塑料、橡膠、紡織等。

3.是新型藥用輔料，可作固體制劑的成膜包衣材料、膠體液體制劑的增稠劑、混懸劑等。

4.化妝品中用于粉類產(chǎn)品,可增進(jìn)黏附性,潤滑性,還可作為醫(yī)藥片劑原料。

CMD2000研磨機(jī)有一定輸送能力，對高固含量有一定粘稠度物料，CM2000設(shè)計了符合漿液流體特性的特殊轉(zhuǎn)子，進(jìn)行物料的推動輸送；所有與物料接觸部位均為316L不銹鋼，機(jī)座采用304不銹鋼；特殊要求如：硬度較大物料，對鐵雜質(zhì)要求嚴(yán)苛的物料，管道有一定壓力并且需不間斷運(yùn)轉(zhuǎn)的工況，可選磨頭噴涂碳化物或陶瓷；CMD2000改良型膠體磨腔體外有夾套設(shè)計，可通冷卻或者升溫介質(zhì)。

CMD2000系列研磨分散機(jī)設(shè)備選型表
 

流量取決于設(shè)置的間隙和被處理物料的特性，可以被調(diào)節(jié)到zui大允許量的10

研磨分散機(jī)的特點：

1、 線速度很高，剪切間隙非常小，當(dāng)物料經(jīng)過的時候，形成的摩擦力就比較劇烈，結(jié)果就是通常所說的濕磨

2、 定轉(zhuǎn)子被制成圓椎形，具有精細(xì)度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。

3、 定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離

4、 在增強(qiáng)的流體湍流下，凹槽在每級都可以改變方向。

5、 高質(zhì)量的表面拋光和結(jié)構(gòu)材料，可以滿足不同行業(yè)的多種要求。

IKN研磨分散機(jī)設(shè)備參數(shù)：

設(shè)備等級：化工級、衛(wèi)生I級、衛(wèi)生II級、無菌級

電機(jī)形式：普通馬達(dá)、變頻調(diào)速馬達(dá)、防爆馬達(dá)、變頻防爆馬達(dá)、

電源選擇： 380V/50HZ、220V/60HZ、440V/50HZ

電機(jī)選配件： PTC 熱保護(hù)、降噪型

研磨分散機(jī)材質(zhì)：SUS304 、SUS316L 、SUS316Ti,氧化鋯陶瓷

研磨分散機(jī)選配：儲液罐、排污閥、變頻器、電控箱、移動小車

研磨分散機(jī)表面處理：拋光、耐磨處理

進(jìn)出口聯(lián)結(jié)形式：法蘭、螺口、夾箍

研磨分散機(jī)選配容器：本設(shè)備適合于各種不同大小的容器

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