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催化劑一般含有金屬氧化物顆粒，要想將顆粒打碎到1-3微米就需要很強的研磨剪切力，我公司的分散機擁有44m/s的線速度，同時可噴涂碳化鎢鈷或陶瓷涂層，可將顆?？刂圃?微米以下。

BASF催化劑分散機是一款集研磨和分散一體化的設備，是一項新的技術革新。研磨分散機是將膠體磨(錐體磨)+高剪切分散機一體化的設備，先研磨后分散，物料研磨后又瞬間進行分散，避免了物料的二次團聚。

BASF高速研磨分散機設備結構:

1由具有精細度遞升的三層鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調整到所需要的與轉子之間的距離。在增強的流體湍流下，凹槽在每都可以改變方向。

2由轉定子組成。分散頭的設計也很好地滿足不同粘度的物質以及顆粒粒徑的需要。在線式的定子和轉子(乳化頭)和批次式機器的工作頭設計的不同主要是因為在對輸送性的要求方面，特別要引起注意的是:在粗精度、中等精度、細精度和其他一些工作頭類型之間的區(qū)別不光是指定轉子齒的排列，還有一個很重要的區(qū)別是不同工作頭的幾何學特征不一樣。狹槽數(shù)、狹槽寬度以及其他幾何學特征都能改變定子和轉子工作頭的不同功能。根據(jù)以往的慣例，依據(jù)以的經驗指定工作頭來滿足一個具體的應用。在大多數(shù)情況下，機器的構造是和具體應用相匹配的，因而它對制造出產品是很重要。當不確定一種工作頭的構造是否滿足預期的應用。CMSD2000分散機為立式分體結構，精密的零部件配合運轉平穩(wěn)，運行噪音在73DB以下。磨頭齒列深度為從開始的2.7mm到末端的0.7mm，除了更精密之外，上深下淺的齒列結構，相較溝槽是直線，同的溝槽深度一樣的磨頭，可以保證物料從上往下一直在進行研磨。雖和其它產品一樣磨頭采用三磨齒，但他們只能在一磨頭到另外一磨頭形成研磨效果。

同時采用德國博格曼雙端面機械密封，并通冷媒對密封部分進行冷卻，把泄露概率降到低，保證機器連續(xù)24小時不停機運行。

CMSD2000分散機有一定輸送能力，對高固含量有一定粘稠度物料，CMD2000設計了符合漿液流體特性的特殊轉子，進行物料的推動輸送。

研磨分散機，顧名思義，是研磨機和分散機的結合體。它是經過依肯眾多實驗并總結后全新研發(fā)出的一類設備，是在傳統(tǒng)膠體磨的基礎上進行改進，添加了分散機的分散盤，使其在膠體磨研磨轉子的高速(高轉速21000轉)研磨作用下瞬間進入分散盤中進行高剪切分散，同時由于在整個過程中除了有高速研磨作用及高剪切分散作用下，物料還同時承受著高頻的液力剪切、離心擠壓、液層摩擦、撞擊撕裂和湍流等多種作用力，因此經IKN上海依肯研磨分散機研磨分散后漿料是均一、穩(wěn)定、精細的高品質產品!

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