- 企業(yè)類型:制造商
- 新舊程度:全新
- 原產(chǎn)地:德國(guó)
- 電壓:380
- 功率:4kw
氟硅酸鉀工業(yè)化高速分散機(jī),氟鋁酸鉀粉液高速混合分散機(jī),納米分散機(jī)高速納米分散機(jī)高剪切納米分散機(jī)納米材料分散機(jī)納米改性分散機(jī),不銹鋼納米分散機(jī)
普通氟硅酸鉀是一種普通重要的化學(xué)試劑用于調(diào)節(jié)各種反應(yīng)的酸度,它是由氟硅酸鉀及其鹽、氯化鉀和氟硅酸組成的氟硅酸鹽混合物,如K2SiF6、K2Si2F10和K2Si4F14等。氟硅酸鉀是由氟硅酸鈉和氯化鉀組成,通常根據(jù)所生產(chǎn)氟硅酸鉀中氟硅酸、氯化鉀之比例來(lái)確定不同級(jí)別品質(zhì),一般可分成高純度、分析純度和二級(jí)純度等等,其中以氟硅酸具有較大量揮發(fā)和溶出性,形成氟化物含量高的液體;而氯化鉀則具有較大的結(jié)晶,形成固態(tài)的氟硅酸鉀。
制備分散粉體材料不易團(tuán)聚和納米高速分散機(jī),納米材料如何分散不易團(tuán)聚和納米高速分散機(jī),高速納米分散機(jī),二氧化硅納米分散機(jī),二氧化鈦高速分散機(jī),納米金屬材料分散機(jī),納米粉體高速分散機(jī)是指將不溶固體顆粒分散到液體中在液體介質(zhì)中的分散體系。在分散過(guò)程中,往往需要減小固體顆粒,這就是濕磨或高剪切分散。用IKN高剪切分散機(jī)輸入大量*,可實(shí)現(xiàn)我們的目的。

顆粒細(xì)化到納米***后,其表面積累了大量的正、負(fù)電荷,納米顆粒的形狀極不規(guī)則,這樣造成了電荷的聚集。納米顆粒表面原子比例隨著納米粒徑的降低而迅速增加,當(dāng)降至1nm時(shí),表面原子比例高達(dá)90**,原子幾乎**部集中到顆粒表面,處于高度活化狀態(tài),導(dǎo)致表面原子配位數(shù)不足和高表面能。納米顆粒具有很高的化學(xué)活性,表現(xiàn)出強(qiáng)烈的表面效應(yīng),很容易發(fā)生聚集而達(dá)到穩(wěn)定狀態(tài),從而團(tuán)聚發(fā)生眾所周知納米氧化物極易產(chǎn)生自身的團(tuán)聚,使得應(yīng)有的性能難以充分發(fā)揮。此外,納米氧化物的諸多奇異性能能否得到充分發(fā)揮,還取決于限度降低粉體與介質(zhì)間的表面張力。因此,納米氧化物粉體均勻分散,充分打開(kāi)其團(tuán)聚體,才能發(fā)揮其應(yīng)有的奇異性能。氣相二氧化硅有效發(fā)揮作用的關(guān)鍵是確保其在樹(shù)脂中獲得適當(dāng)?shù)姆稚ⅰ7稚?*越好,則有效性越好。對(duì)樹(shù)脂行業(yè)而言,氣相二氧化硅的分散可以使用多種方法,例如碾磨,高速剪切,球磨,砂磨,超聲波分散等等,其中前兩種方法使用的更多。就主要的分散步驟而言也有兩種,即所謂的一步法和兩步法一步法是指將氣相二氧化硅加入樹(shù)脂中直接得到所需要的一定含量的產(chǎn)品,一步法的特點(diǎn)是生產(chǎn)工藝簡(jiǎn)單,比較適合大批量,產(chǎn)品單一的生產(chǎn)。
目前產(chǎn)品質(zhì)量較好的企業(yè)使用的分散方式主要采取一步法的高速剪切分散,能基本滿足用戶的需要。由于我們行業(yè)的特點(diǎn),有相當(dāng)多的中小企業(yè)分散設(shè)備十分落后,分散時(shí)根本形成不了剪切力,只是一種攪拌,氣相二氧化硅在樹(shù)脂中根本形成不了網(wǎng)狀結(jié)構(gòu),從而無(wú)法發(fā)揮材料的性能。造成這種情況的主要原因1尚未對(duì)分散的作用有正確的認(rèn)識(shí),許多生產(chǎn)商并未意識(shí)到分散的重要性;2不知道對(duì)終產(chǎn)品的品質(zhì)如何評(píng)價(jià),
分散頭的形式(批次式和連續(xù)式)(連續(xù)式比批次好)
2分散頭的剪切速率(越大,效果越好)
3分散頭的齒形結(jié)構(gòu)(分為初齒,中齒,細(xì)齒,chao細(xì)齒,約細(xì)齒效果越好)
4物料在分散墻體的停留時(shí)間,乳化分散時(shí)間(可以看作同等的電機(jī),流量越小,效果越好)
5循環(huán)次數(shù)(越多,效果越好,到設(shè)備的期限,就不能再好)

線速度的計(jì)算
剪切速率的定義是兩表面之間液體層的相對(duì)速率。
-剪切速率(s-1)=v速率(m/s)g定-轉(zhuǎn)子間距(m)
由上可知,剪切速率取決于以下因素:
-轉(zhuǎn)子的線速率
-在這種請(qǐng)況下兩表面間的距離為轉(zhuǎn)子-定子間距。IKN定-轉(zhuǎn)子的間距范圍為0.2~0.4mm
速率V=3.14XD(轉(zhuǎn)子直徑)X轉(zhuǎn)速RPM/60

1表中上限處理量是指介質(zhì)為“水”的測(cè)定數(shù)據(jù)。
2處理量取決于物料的粘度,稠度和#終產(chǎn)品的要求。
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