存儲(chǔ)器NAND01GW3B2CN6F
產(chǎn)品參數(shù):
是否提供加工定制: 否
品牌: Numonyx/恒憶
型號(hào): NAND01GW3B2CN6F
封裝: TSOP48
批號(hào): 2010+
類型: 存儲(chǔ)器
產(chǎn)品種類 閃存
封裝-箱體 TSOP
組織 128K Byte x 1024
電源電壓 3.6 V
最小電源電壓 2.7 V
數(shù)據(jù)總線寬度 8 bit
存儲(chǔ)容量 1 Gbit
訪問時(shí)間 25000 ns
定時(shí)類型 Asynchronous
工作電流 30 mA
最小工作溫度 0 C
工作溫度 + 70 C
要講解閃存的存儲(chǔ)原理,還是要從EPROM和EEPROM說起。
EPROM是指其中的內(nèi)容可以通過特殊手段擦去,然后重新寫入。其基本單元電路(存儲(chǔ)細(xì)胞)如下圖所示,常采用浮空柵雪崩注入式MOS電路,簡稱為FAMOS.它與MOS電路相似,是在N型基片上生長出兩個(gè)高濃度的P型區(qū),通過歐姆接觸分別引出源極S和漏極D.在源極和漏極之間有一個(gè)多晶硅柵極浮空在SiO2絕緣層中,與四周無直接電氣聯(lián)接。這種電路以浮空柵極是否帶電來表示存1或者0,浮空柵極帶電后(譬如負(fù)電荷),就在其下面,源極和漏極之間感應(yīng)出正的導(dǎo)電溝道,使MOS管導(dǎo)通,即表示存入0.若浮空柵極不帶電,則不形成導(dǎo)電溝道,MOS管不導(dǎo)通,即存入1.
EEPROM基本存儲(chǔ)單元電路的工作原理如下圖所示。與EPROM相似,它是在EPROM基本單元電路的浮空柵的上面再生成一個(gè)浮空柵,前者稱為級(jí)浮空柵,后者稱為第二級(jí)浮空柵。可給第二級(jí)浮空柵引出一個(gè)電極,使第二級(jí)浮空柵極接某一電壓VG.若VG為正電壓,浮空柵極與漏極之間產(chǎn)生隧道效應(yīng),使電子注入浮空柵極,即編程寫入。若使VG為負(fù)電壓,強(qiáng)使級(jí)浮空柵極的電子散失,即擦除。擦除后可重新寫入。
閃存的基本單元電路,與EEPROM類似,也是由雙層浮空柵MOS管組成。但是層?xùn)沤橘|(zhì)很薄,作為隧道氧化層。寫入方法與EEPROM相同,在第二級(jí)浮空柵加以正電壓,使電子進(jìn)入級(jí)浮空柵。讀出方法與EPROM相同。擦除方法是在源極加正電壓利用級(jí)浮空柵與源極之間的隧道效應(yīng),把注入至浮空柵的負(fù)電荷吸引到源極。由于利用源極加正電壓擦除,因此各單元的源極聯(lián)在一起,這樣,快擦存儲(chǔ)器不能按字節(jié)擦除,而是全片或分塊擦除。 到后來,隨著半導(dǎo)體技術(shù)的改進(jìn),閃存也實(shí)現(xiàn)了單晶體管(1T)的設(shè)計(jì),主要就是在原有的晶體管上加入了浮動(dòng)?xùn)藕瓦x擇柵,
在源極和漏極之間電流單向傳導(dǎo)的半導(dǎo)體上形成貯存電子的浮動(dòng)棚。浮動(dòng)?xùn)虐粚庸柩趸そ^緣體。它的上面是在源極和漏極之間控制傳導(dǎo)電流的選擇/控制柵。數(shù)據(jù)是0或1取決于在硅底板上形成的浮動(dòng)?xùn)胖惺欠裼须娮?。有電子?,無電子為1.
閃存就如同其名字一樣,寫入前刪除數(shù)據(jù)進(jìn)行初始化。具體說就是從所有浮動(dòng)?xùn)胖袑?dǎo)出電子。即將有所數(shù)據(jù)歸“1”.
寫入時(shí)只有數(shù)據(jù)為0時(shí)才進(jìn)行寫入,數(shù)據(jù)為1時(shí)則什么也不做。寫入0時(shí),向柵電極和漏極施加高電壓,增加在源極和漏極之間傳導(dǎo)的電子能量。這樣一來,電子就會(huì)突破氧化膜絕緣體,進(jìn)入浮動(dòng)?xùn)拧?br /> 讀取數(shù)據(jù)時(shí),向柵電極施加一定的電壓,電流大為1,電流小則定為0.浮動(dòng)?xùn)艣]有電子的狀態(tài)(數(shù)據(jù)為1)下,在柵電極施加電壓的狀態(tài)時(shí)向漏極施加電壓,源極和漏極之間由于大量電子的移動(dòng),就會(huì)產(chǎn)生電流。而在浮動(dòng)?xùn)庞须娮拥臓顟B(tài)(數(shù)據(jù)為0)下,溝道中傳導(dǎo)的電子就會(huì)減少。因?yàn)槭┘釉跂烹姌O的電壓被浮動(dòng)?xùn)烹娮游蘸?,很難對(duì)溝道產(chǎn)生影響。
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