| 一、技術指標: 分 析 范 圍: 1PPM-99.99% 同 時 分 析: 幾十種元素同時分析 測量鍍層:鍍層厚度測量精確至0.005微米 測 量 對 象: 固體、粉未、液體 測 量 時 間: 60-300 秒 測 量 精 度 : 0.05% 分 析 元 素: Na-U 工 作 溫 度: 15-26℃ 相 對 濕 度: ≤70% 重 量 : 100KG 功 耗: 200瓦 二、儀器配置: 多樣自動進樣系統 計算機、噴墨打印機 真空泵(可選) 壓片機(可選) 硅針半導體探測器 放大電路 高低壓電源 X光管 |