儀器簡(jiǎn)介：
Helios NanoLab是目前強(qiáng)大的場(chǎng)發(fā)射掃描(FESEM)+聚焦離子束(FIB)"雙束"顯微鏡系統(tǒng), 是FESEM/FIB 應(yīng)用的前沿工具:
-  無(wú)與倫比的成像性能
-  二維和三維 納米分析
-  納米原型設(shè)計(jì)
-  的樣本制備性能


技術(shù)參數(shù)：
1.分辨率
　在適佳工作距離下：
　　0.9nm @ 15kV
　　1.4nm @ 1kV
　在束交點(diǎn)(電子束+離子束)的工作距離下：
　　1.0nm @ 15kV, 束交點(diǎn)工作距離 4mm
　　5nm FIB @ 30kV，束交點(diǎn)工作距離 16.5mm
2.加速電壓范圍：
　　SEM: 30kV 至 350V
　　FIB: 30kV 至 500V
3.探測(cè)器：
　　新一代TLD二次電子/背散射電子探測(cè)器
　　樣品室紅外CCD
　　可選CDEM離子探測(cè)器、STEM、固體背散射探測(cè)器等
4.氣體注入系統(tǒng)（GIS）：
　　Pt沉積氣體
　　W沉積氣體
　　C沉積氣體
　　金屬增強(qiáng)蝕刻氣體
　　氧化物增強(qiáng)蝕刻氣體
　　(FEI目前可提供多達(dá)11種氣體)
5.150mm(6")壓電陶瓷馬達(dá)驅(qū)動(dòng)的全對(duì)中樣品臺(tái)

主要特點(diǎn)：
1. Schottky FESEM次達(dá)到亞納米分辨率
2. FIB出色的分辨率以及范圍的束流和加速電壓
3. 出色的成像質(zhì)量和系統(tǒng)穩(wěn)定性
4. 新集成的電子和離子束16 位數(shù)字圖案生成器
5. 薄的樣品制備，非常低的樣品損傷、高速度、并且操作輕松
6. 二維和三維的納米表征和納米原型制作達(dá)到了新的極限