TDC-200膜層控制儀在線測量和控制鍍膜的速率和膜層的厚度，具有閉環(huán)控制沉積速率，與光學控制設備配合使用，可完成復雜的光學鍍膜。本儀器可以控制單層或多層膜的沉積，通過對沉積工藝的數(shù)字化控制，大幅鍍膜的質量和可重復性?？墒褂萌詣幽Ｊ絹硗瓿蓮碗s膜系的制備，同時又提供了半自動和手動的控制方式，與自動化程度不同的鍍膜設備協(xié)同工作。
　　
　　▲配置
　　TDC-200膜層控制儀可支持標準單探頭、帶擋板單探頭和帶擋板雙探頭。
　　TDC-200膜層控制儀配備了RS-232工業(yè)標準通信接口，配合本公司提供的計算機控制軟件，方便用戶在計算機上進行膜系編程，通過計算機進行數(shù)據(jù)采集和數(shù)據(jù)分析，實現(xiàn)遠程控制。用戶也可根據(jù)本公司提供的通信協(xié)議進行二次開發(fā)，在自行設計的軟件中集成測量和控制功能，可方便地實現(xiàn)系統(tǒng)集成。
　　TDC-200膜層控制儀具有16個輸入／輸出端口。具有兩個高的源控制電壓輸出，以配合有兩個源的真空鍍膜設備，是在進行多層鍍膜時，大大了控制，進而鍍膜質量。
　　
　　▲編程
　　TDC-200型膜層控制儀采用全中文人機操作界面，易于使用。配備256x128大型圖形點陣LCD，低功耗LED背光，整屏顯示內容多，并支持滾屏，用戶編程和操作方便快捷。
　　TDC-200膜層控制儀具有5個可編程工藝膜系，每個工藝膜系多能設定99層，共計495個膜層。包含一個267種材料的材料參數(shù)庫，其中已定義的材料為257種，未定義的材料10種，可由用戶自行設定。
　　
　　▲功能
　　TDC-200膜層控制儀提供給用戶厚度、速度、功率等實時數(shù)據(jù)，以便用戶可以對實時數(shù)據(jù)進行分析，并提供速度曲線和功率曲線，通過觀察過程曲線了解鍍膜情況，方便用戶找到的控制工藝。
　　TDC-200膜層控制儀采用閉環(huán)控制技術穩(wěn)定材料的沉積速率，與光學控制設備配合使用時，可配合光學測量系統(tǒng)測量膜層的光學厚度，用來補償物理厚度和光學厚度之間的偏差，可以滿足復雜的光學鍍膜工藝要求。
　　在鍍膜過程中，當晶片無效時，TDC-200膜層控制儀能自動設定中斷，并啟動切換程序，控制雙探頭系統(tǒng)，待晶片切換成功后，繼續(xù)恢復鍍膜，以多層鍍膜工藝連續(xù)性。