NA MASTER(那諾-馬斯特)的等離子灰化和清洗系統(tǒng)可用于單晶圓處理或批處理，清洗、刻蝕、改性、去膠等各種功能。各向同性PE和各向異性RIE兩種刻蝕并存，并可編程實現(xiàn)自動切換，型號包含NPC-3000，NPC-4000。
等離子清洗及去膠系統(tǒng)
NA-MASTER(那諾-馬斯特)等離子灰化和清洗系統(tǒng)是專門設計用來滿足晶圓批處理或者單晶片處理的廣泛應用，從晶圓的光刻膠剝離到表面改性都涉及到。該系列的設備采用PC控制，可以配套不同的等離子源，加熱或不加熱基片夾具,具有的能力:可以從PE等離子刻蝕切換到RIE刻蝕模式,也就是說可以支持各向同性和各向異性的各種應用。
產品特點：
臺式或系統(tǒng)
不銹鋼、鋁制腔體或鐘罩式耐熱玻璃腔
兼容100級凈間使用
淋浴頭、ICP或微波等離子源
旋轉樣品臺
RF偏壓可PID控制加熱到300 °C或冷卻的樣品臺
全自動或手動RF調諧
多可支持4個MFC帶電拋光的氣體管路
PC計算機控制的氣動閥
帶保護的多級訪問控制
基于LabView軟件的PC計算機全自動控制
機械泵的壓力可10mTorr
250 l/s的渦輪分子泵
限真空為5x10-7Torr
完整的聯(lián)鎖
產品應用：
物以及無機物的殘留物去除
光刻膠剝離或灰化
去殘膠以及內腐蝕(深腐蝕)應用
清洗微電子元件，電路板上的鉆孔或銅線框架
黏附性，消除鍵合問題
塑料的表面改型：O2處理以改進涂覆性能
產生親水或疏水表面
