NA MASTER(那諾-馬斯特)的PECVD系統(tǒng)可用于氧化物和氮化物的沉積，可以通過不同配置實現(xiàn)沉積，或控制氮化物薄膜應(yīng)力，或支持CNT和石墨烯生長。主要型號包含NPE-3000，NPE-3500，和NPE-4000。

PECVD/等離子增強化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)

        NA-MASTER(那諾-馬斯特) PECVD系統(tǒng)能夠沉積高質(zhì)量的SiO2, Si3N4, 或DLC薄膜到可達12” 直徑的基片上.該系統(tǒng)采用淋浴頭電或中空陰射頻等離子源來產(chǎn)生等離子，具有分形氣流分布的優(yōu)勢.樣品臺可以通過RF或脈沖DC產(chǎn)生偏壓。并可以支持加熱和循環(huán)冷卻水的冷卻.使用250l/sec渦輪分子泵及3.5 cfm的機械泵，腔體可以10-7 torr的真空。標準配置包含1路惰性氣體、3路氣體管路和4個MFC.帶有氣體分布系統(tǒng)的平面中空陰等離子源使得系統(tǒng)可以滿足廣大范圍的要求，無論是等離子強度、均勻度，還是要分別激活某些組份，這樣系統(tǒng)可以覆蓋廣的可能性來獲得各種沉積參數(shù)。

產(chǎn)品特點：

• 不銹鋼或鋁制腔體

• 限真空可達10-7Torr

• RF淋浴頭，HCD或微波等離子源可選

• 12”(300mm)直徑的樣品臺

• RF射頻偏壓樣品臺

• 水冷樣品臺

• 可加熱到800 °C樣品臺

• 加熱的氣體管路

• 加熱的液體傳送單元

• 腐蝕的渦輪分子泵組

• 1路載體氣體以及3路反應(yīng)氣體，帶MFC

• 可支持8路MFC，帶排放箱及氣體閥組

• 預(yù)真空鎖及自動上腔門

• 氣動控制閥

• 基于LabView軟件的PC計算機全自動控制

• 菜單驅(qū)動，4級訪問保護

• 完整的聯(lián)鎖

產(chǎn)品應(yīng)用：

• 等離子誘導(dǎo)表面改性

• 等離子清洗

• 等離子聚合

• SiO2, Si3N4, a-Si, DLC以及其它薄膜

• CNT選擇性生長

更多設(shè)備型號：

• NPE-4000：基于PC計算機全自動控制的系統(tǒng)

• NPE-3500：基于PC計算機全自動控制的緊湊型系統(tǒng)

• NPE-3000：基于PC計算機全自動控制的臺式系統(tǒng)

• NRP-4000：RIE/PECVD雙系統(tǒng)

• NSP-4000：濺射/PECVD雙系統(tǒng)

                                         NaMaster平面等離子源